[더구루=정예린 기자] 미국 광물업체 '컴파스 미네랄'이 진행중이던 리튬 프로젝트를 전면 중단한다. 컴파스 미네랄을 통해 안정적인 북미 리튬 공급망을 구축하겠다는 LG에너지솔루션의 목표가 차질을 빚게 됐다. 9일 컴파스 미네랄에 따르면 회사는 지난 2일(현지시간) "유타주의 진화하는 규제 환경이 명확해질 때까지 계획된 리튬 프로젝트에 대한 추가 투자를 무기한 중단할 것"이라고 발표했다. 리튬 사업 관련 인력을 일시적으로 재배치하고 프로젝트도 재검토할 예정이다. 컴파스 미네랄이 이같은 결정을 내린 것은 올 3월 유타주 하원이 통과시킨 법안 'H.B. 513(일명 그레이트 솔트레이크 수정안)'과 후속 규칙 제정 때문이다. 513 법안은 광물 회사가 △리튬 추출하는 그레이트 솔트레이크 호수의 물 사용을 최소화 △사용된 물을 호수에 재공급 △호수 보호를 위한 기금에 로열티 지불 등을 강제하는 내용을 담고 있다. 컴파스 미네랄은 법안이 통과된 후에도 투자 중단이라는 최악의 상황은 막기 위해 정부와 지속적으로 협력해왔다. 하지만 유타 산림·화재·국토부(FFSL)까지 513 법안을 기반으로 한 추가 규제를 예고하면서 컴파스 미네랄은 프로젝트 개발 중단이라는 마지막 카드를
[더구루=오소영 기자] 미국 컴파스 미네랄이 에너지소스 미네랄스(EnergySource Minerals LLC, 이하 ESM)의 리튬 추출 기술을 도입한다. 2025년까지 1만t에 달하는 리튬을 생산해 LG에너지솔루션·포드와의 계약 이행에 차질이 없도록 한다. [유료기사코드] 컴파스 미네랄은 ESM을 DLE(Direct Lithium Extraction) 기술 제공 업체로 선정했다고 14일(현지시간) 밝혔다. DLE는 염호에서 리튬을 직접 추출하는 기술이다. 리튬 추출까지 수일이면 충분해 길게는 1년가량 소요되는 기존 공법보다 시간을 단축할 수 있다. 탄소 배출이 적고 물 소비량을 절약하는데 용이하다. 컴파스 미네랄은 3년간 다수 업체의 DLE 기술을 검토해왔다. 후보군을 4곳으로 좁혀 평가한 결과 ESM을 파트너사로 최종 선택했다. ESM은 2018년 미국 지열에너지 전문 기업 에너지소스에서 분사해 설립됐다. 불순물 덩어리를 리튬 염수와 분리하는 기술을 보유했으며 미국 캘리포니아주 솔튼해에서 자체 DLE 프로젝트도 진행하고 있다. 컴파스 미네랄은 ESM과 협력해 리튬을 생산할 계획이다. 컴파스 미네랄은 유타주 그레이트솔트 호수를 활용해 황산칼륨과 염화마그네
[더구루=정예린 기자] 싱가포르가 보스턴다이내믹스와 고스트로보틱스의 4족 보행 로봇을 적극 도입하고 있다. 정부 차원의 로봇 기술 투자 확대로 스마트시티 전략이 추진이 가속화, 양사와의 추가 협력에 대한 기대감이 커지는 모습이다. [유료기사코드] 2일 업계에 따르면 싱가포르 홈팀과학기술청(HTX)은 고스트로보틱스와 보스턴다이내믹스의 로봇을 공공 안전, 재난 대응, 방역 등 다양한 분야에 투입하고 있다. 내무부 산하 조직인 HTX는 경찰·이민·국경·민방위 등의 기술 혁신을 주도하며, 로봇뿐 아니라 △드론 △인공지능(AI) △화학·생물·방사능(CBR) 대응 기술 등도 관장한다. 먼저 고스트로보틱스는 HTX와 싱가포르 과학기술연구청, 엔지니어링 기업 '클라스 엔지니어링 솔루션스(Klass Engineering and Solutions)' 등 현지 정부, 기업 파트너사들과 협력해 맞춤형 4족 보행 로봇 '로버-X(Rover-X)'를 개발했다. 로버-X는 원격 조종과 자율주행 기능을 갖추고 있으며, 험지·야간 환경 등에서도 안정적인 작전 수행이 가능하다. HTX는 이를 기반으로 보안 감시, 인프라 점검, 위기 대응 시나리오에 맞춘 맞춤형 모듈 개발에 집중하고 있다.
[더구루=정예린 기자] 화웨이가 내년 3나노미터(nm) 반도체를 양산할 계획이라는 소식이 나왔다. 미국의 수출 규제로 금지된 ASML의 극자외선(EUV) 장비 없이 5나노 공정을 구현한 데 이어 3나노 개발에도 박차를 가하며 첨단 반도체 자립에 속도를 내고 있다. [유료기사코드] 2일 대만연합신문망(UDN)에 따르면 화웨이는 오는 2026년 생산을 목표로 3나노 칩 연구개발(R&D)을 진행 중이다. 사실상 3나노 이하 공정부터는 EUV 장비 필수로 여겨지지만, 화웨이는 EUV 장비 없이 자체 공정과 장비로 이를 구현하겠다는 전략이다. 현재 화웨이는 두 가지 방식으로 3나노 칩을 개발하고 있다. 삼성전자와 TSMC가 채택한 게이트올어라운드(GAA) 구조 기반의 칩과 차세대 아키텍처로 주목받는 탄소나노튜브 설계를 바탕으로 하는 반도체 등이다. 탄소나노 기반 3나노 칩은 이미 실험실 단계 검증을 마치고 중국 파운드리(반도체 위탁생산) 업체 'SMIC'의 생산 라인에 맞춰 최적화 작업이 진행 중인 것으로 알려졌다. 화웨이는 미국 제재로 인해 ASML의 EUV 노광 장비를 사용할 수 없다. 대신 중국 SMEE(Shanghai Micro Electronics E