ASML, 차세대 EUV 노광장비 '하이 NA' 첫 테스트 가동 성공

본사에 설치된 장비로 10nm 밀도 회로 패턴 인쇄
ASML, 올 1분기 순이익 전년比 40%↓…2분기 수주잔고 반등

[더구루=정예린 기자] 네덜란드 ASML가 차세대 극자외선(EUV) 노광 장비 '하이(High) NA' 첫 테스트 가동에 성공했다. 지속적인 성능 개선을 토대로 하이 NA를 최초 납품받은 고객사인 인텔의 장비 활용 시기도 앞당길 수 있을지 주목된다.


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