[더구루=정예린 기자] 중국 칭화대학교 연구팀이 초미세 반도체 제조의 핵심 소재인 극자외선(EUV) 포토레지스트를 독자 개발했다. 중국이 EUV 공정용 소재 기술을 자체 확보한 것은 이번이 처음으로, 반도체 자립을 위한 기술 내재화에 속도가 붙을 것으로 보인다.
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