TSMC, 1.4nm·1nm 첨단 공정에 '포토마스크 펠리클' 도입 추진

하이 NA EUV 대신 기존 EUV에 펠리클 더해 공정 효율 극대화
포토마스크 펠리클 적용으로 노광 횟수 증가·마스크 수명 문제 해결

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