中 반도체 자립 '가속'...칭화대, EUV 포토레지스트 독자 개발

'폴리텔루옥산 기반' EUV 포토레지스트 설계…고성능 구현
장비 막히자 소재로 돌파…中, 초미세 공정 경쟁력 강화

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