[더구루=정예린 기자] 미국 IBM이 일본 토판 포토마스크(Toppan Photomasks, 이하 토판)와 손잡고 2나노미터(nm)급 반도체 공정에 필요한 포토마스크 개발에 나선다. 약 20년간 이어진 토판과의 동맹을 확대해 초미세 반도체 소자 양산을 앞당긴다.
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